水基清洗剂为什么必须设施清除设备？有何要点，合明科技为您答案！在IPC－CH－65B中文清除标准中，水基清除步骤定义：①、洗净：首要的清除操作者，利用化学和物理起到将不当杂质（污染物）从表面除去。洗涤液可由纯水或含弱碱性化学品的水所包含。

②、冲洗：清除作业（一般来说追随在洗净步骤之后），整洁纯水冲洗移位，一般来说是通过溶解，任何残余污染的洗涤液。一般来说不会使用多道冲洗来增加任何残余污染。③、潮湿：除去任何残余在已洗净和已冲洗表面的水的制程。潮湿后必需是无污的表面。

水基清除工艺阐述：洗手的目的是除去零件表面的外来杂质，以防止对产品的性能和外观上导致有利影响。如洗手丝网和钢网是为维持其最佳状态以便利再度用于。所需的洗手程度可能会因产品类型和性能需求有所不同，如丝网和钢网一般来说清除到“视觉洗手”的状态，部件洗手必需需要避免可见与不可见的污染物，如离子化的材料及可能会阻碍润湿性和黏合性的残留物。

对于电子装配件，“视觉洗手”的外观可能会超过令人满意的外观标准，但保证产品性能方面有可能会令人满意。因此，一般来说使用半定量和定量测试，以证实清除过程中的目标获得符合，在洗手中“性能设置拒绝”是首要目标，其他目标也必需原作和构建。清除过程中不得损毁已洗手的部分，清除必需在实际和合乎成本效益方面需要已完成。应用于的清除工艺也必需是安全性的以及环境的相容性。

水本身是一个十分安全性的材料，会损毁电子组装过程中用于的大部分部件。水在安全性和身体健康方面不不存在任何问题。用于较低离子浓度的DI水在某些情况下有可能影响表面。

另外，零件清除后水必需被清理，因为湿气的不存在可能会阻碍电气性能，所以潮湿步骤必需是水基清除过程中的一部分。在所有的清除过程，必须检查零件的相容性和冲洗的敏感性。

适当时，应当检查这个设计以保证的屋状涂覆充足潮湿。当自由选择一个清除工艺时，必需考虑到许多因素，处置产量、劳动力、空间拒绝、洗净／冲洗介质、加热方法、应用于条件和设备的功能都必需考虑到。总之，清除工艺设计的目标是对产品没伤害，采行可操作者的、有竞争力的成本、安全性和环保的方法，从零件表面清理不必须的物质（工艺残渣）。

综上，水基清除设施清除设备是必须的，以便保证安全可靠的水基清除工艺流程。以上一文，仅供参考！。

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